2013年6月3-7日于厦门闽桥宾馆成功召开了2013年XIL用户研讨会。会议由来自同济大学,复旦大学,苏州大学,东南大学,中国科学院技术物理研究所,中国科学院理化所,中国科学院化学所,中国科学院物理所,中国科学院微电子所和中国科学院上海应用物理研究所10个单位的50多位代表组成。会议分先进光刻胶技术,先进纳米器件和界面自组装三个主题。李嫕研究员,吴义政教授,王占山教授等13位代表分别就相关方向的背景,科学问题以及将来的发展方向以及XIL光刻线站的要求等进行了详细的介绍。与会代表就相关问题展开了热烈的讨论和交流。就存在的周期性结构制备方法和后处理问题,XIL线站工作人员进行了详细的介绍和解答。通过本次会议,基本确定了XIL光刻线站将来的发展方向,凝练出了相关的关键问题和得到了相关研究成果的预期。下面就XIL光刻技术重要应用领域和方向、可解决的关键科学问题以及对XIL技术的需求等问题进行详细介绍。总之,通过本次会议凝练相关重点研究方向,不断改善XIL光刻线站的工艺参数,提高线站的运行效率和后处理制备工艺。有望在先进光刻胶,纳米磁学,构筑新型的纳米器件和周期性纳米结构对生物学效应等方面取得突出性的新进展。